(5)2011年 与日本产业技术综合研究所 (National Institute of Advanced Insdustrial Science & Technology) 共同研发 “Au纳米间隙的电子迁移与表面沉积同步纳加工” 先进技术,微细制造沟宽小于1纳米 (<1nm) 的Au纳米间隙。 该项纳加工技术在先进电子器件、光学器件及生物器件等领域有者广泛的应用前景。作为共同申请人获相关日本国授权发明专利一项、作为共同通讯作者在ACS Applied Materials & Interfaces (JCR1区期刊 IF=6.723) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇

点击次数:发布时间:2019-07-12

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科研项目
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个人信息:

  • 性别:男
  • 职称:教授
  • 毕业院校:日本高等学校或研究机构
  • 学历:博士研究生毕业
  • 学位:博士
  • 所在单位:机械与航空航天工程学院
  • 职务:No
  • 学科:机械制造及其自动化

其他联系方式

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