王东方 Research Projects （2）2005年与美国斯坦福大学 (Stanford University) 等开展国际合作，在单晶硅基体上表面微制造 (Surface Micromachining) 横截面约数百纳米 (<500nm) 的强磁性条状结构，为全硅量子计算机 (All-Silicon Quantum Computer) 的研发与实现提供物理支持，获日本NEC/TOKIN科学技术振兴财团研究奖励奖。作为第一作者暨通讯作者在IOP Nanotechnology (JCR1区期刊 IF=3.821) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇

Dong F Wang

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博士

Doctor graduate

Zhejiang Uni. & Tohoku Uni.

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（2）2005年与美国斯坦福大学 (Stanford University) 等开展国际合作，在单晶硅基体上表面微制造 (Surface Micromachining) 横截面约数百纳米 (<500nm) 的强磁性条状结构，为全硅量子计算机 (All-Silicon Quantum Computer) 的研发与实现提供物理支持，获日本NEC/TOKIN科学技术振兴财团研究奖励奖。作为第一作者暨通讯作者在IOP Nanotechnology (JCR1区期刊 IF=3.821) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇

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Pre One:（1）2002年原位观测CNx薄膜表面纳米摩擦现象全过程，从理论上解析纳米疲劳的发生条件，在世界摩檫学领域首次证实纳米疲劳是产生10-6mm3/Nm数量级磨损率的主要机制。作为第一作者暨通讯作者在Elsevier Tribology International (JCR 1区期刊 IF=4.271) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文15余篇，在ASME Journal of Tribology上发表的系列学术论文获美国机械工程师学会摩擦学分会 (Tribology Division of ASME) 2002年度最优秀论文奖 (Best Paper Award)

Next One:（3）2009年与日本企业 SHINTO Scientific Co., Ltd. 共同研制“超低载荷(<0.1g)表面性能试验机 (Tribogear Series Type 36)”，在线监测超低载荷作用下表面摩擦力等物理量的微小变化。该产品（试验机）已在微小机械及化妆品研发等领域实现成果转化。