王东方 Research Projects （1）2002年原位观测CNx薄膜表面纳米摩擦现象全过程，从理论上解析纳米疲劳的发生条件，在世界摩檫学领域首次证实纳米疲劳是产生10-6mm3/Nm数量级磨损率的主要机制。作为第一作者暨通讯作者在Elsevier Tribology International (JCR 1区期刊 IF=4.271) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文15余篇，在ASME Journal of Tribology上发表的系列学术论文获美国机械工程师学会摩擦学分会 (Tribology Division of ASME) 2002年度最优秀论文奖 (Best Paper Award)

Dong F Wang

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博士

Doctor graduate

Zhejiang Uni. & Tohoku Uni.

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（1）2002年原位观测CNx薄膜表面纳米摩擦现象全过程，从理论上解析纳米疲劳的发生条件，在世界摩檫学领域首次证实纳米疲劳是产生10-6mm3/Nm数量级磨损率的主要机制。作为第一作者暨通讯作者在Elsevier Tribology International (JCR 1区期刊 IF=4.271) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文15余篇，在ASME Journal of Tribology上发表的系列学术论文获美国机械工程师学会摩擦学分会 (Tribology Division of ASME) 2002年度最优秀论文奖 (Best Paper Award)

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Pre One:主持或参与多项国家自然科学基金委员会、日本学术振兴会、日本科学技术振兴机构及各类横向课题 (先后与TOYOTA（丰田）、NISSAN （日产）、HITACHI（日立）、NEC（日电）、TOSHIBA（东芝）、OMRON（欧姆龙）、DENSO（电装）、SONY（索尼）、一汽（解放）等70余家企业开展校企合作)，注重“探索学术前沿”与“解决工程实际”之间的交叉融合。

Next One:（2）2005年与美国斯坦福大学 (Stanford University) 等开展国际合作，在单晶硅基体上表面微制造 (Surface Micromachining) 横截面约数百纳米 (<500nm) 的强磁性条状结构，为全硅量子计算机 (All-Silicon Quantum Computer) 的研发与实现提供物理支持，获日本NEC/TOKIN科学技术振兴财团研究奖励奖。作为第一作者暨通讯作者在IOP Nanotechnology (JCR1区期刊 IF=3.821) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇