王东方 Research Projects （5）2010年与日本产业技术综合研究所 (National Institute of Advanced Insdustrial Science & Technology) 共同研发 “Au纳米间隙的电子迁移与表面沉积同步纳加工” 先进技术，微细制造沟宽小于1纳米 (<1nm) 的Au纳米间隙。该项纳加工技术在先进电子器件、光学器件及生物器件等领域有者广泛的应用前景。作为共同申请人获相关日本国授权发明专利一项、作为共同通讯作者在ACS Applied Materials & Interfaces (JCR1区期刊 IF=8.758) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇

Dong F Wang

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博士

Doctor graduate

Zhejiang Uni. & Tohoku Uni.

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（5）2010年与日本产业技术综合研究所 (National Institute of Advanced Insdustrial Science & Technology) 共同研发 “Au纳米间隙的电子迁移与表面沉积同步纳加工” 先进技术，微细制造沟宽小于1纳米 (<1nm) 的Au纳米间隙。该项纳加工技术在先进电子器件、光学器件及生物器件等领域有者广泛的应用前景。作为共同申请人获相关日本国授权发明专利一项、作为共同通讯作者在ACS Applied Materials & Interfaces (JCR1区期刊 IF=8.758) 等国际SCI源刊上发表相关学术论文数篇

Hits:

Pre One:（4）2010年基于“同步共振”、“局部化”、“超/次谐振”、“双稳态”、“参激共振”等非线性振动理论，构建并研发“超高分辨率、超高灵敏度物理量传感器件”，实现皮克级（pg）至飞克级（fg）质敏、力敏及场敏检测。获授权专利八项。作为第一作者暨通讯作者在AIP Applied Physics Letters (JCR2区期刊 IF=3.515)等国际SCI源刊上共发表系列学术论文近20篇。

Next One:（6）2010年提出并构建“无源非接触式双线电流检测新方法”，设计与制造第一代 “无源非接触式微型MEMS双线电流传感器”，该器件无需外加电源即可直接用于双线直流和交流电流的非接触式测量，并为近未来直流和交流电量的在线检测及实时监控提供理论与技术支持。获日本授权发明专利一项、中国授权专利八项、作为第一作者暨通讯作者或作为通讯作者在AIP Applied Physics Letters (IF=3.597)、IEEE Transactions on Industrial Electronics (JCR1区期刊 IF=7.515) 等国际SCI源刊上共发表系列学术论文近30篇。